AT(株)技术研究所在真空镀膜设备领域拥有着核心制造技术及工艺技术,为提供最优化的设备而不断地进行努力中。 为此,技术研究所以机械制造及控制系统、设备工艺技术、薄膜技术、沉积源技术等多种领域的研发为基础,积极地进行着研究用镀膜设备以及量产用真空镀膜设备的可行性研究。
  • 3D Simulation | 器械有限要素/列/磁场结构分析

为了确保镀膜设备中主要器械的安全性以及溅射沉积源磁场结构的效率性,正采用3次元解析方法进行事先分析,致力于为顾客提供最优化的设备及沉积源。

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  • 新型设备工艺研发 | 新型镀膜设备/沉积源/设备工艺研发
为了制造出满足顾客需求的新型产品,正在研发不同类型的镀膜设备及沉积源。同时,运用本公所拥有的设备进行事先测试,对薄膜的性能进行评价和分析。
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▷ 新产品开发 : 新的 R2R  / In-Line / Cluster / 一般工业沉积设备
▷ 新源发展 : 表面处理等离子源和热处理来源 / 线性热沉积源 / 溅射源 / PECVD / 混合等离子体源
▷ 领先的产品开发支持 : 拿着新产品的技术开发支持 / 开发由新的沉积源支持基于 / 新产品开发过程的支持
▷ 政府保障任务涉及 : 国家项目山 – 山学年财团,参与联合开发
  • 产品应用领域工艺研发 | 应用产品薄膜工艺研发
AT(株)技术研究所根据提供的产品不同,会援助相应的设备最优化工艺以及生产产品性能最优化工艺技术。
对此,技术研究所为了在薄膜性能以及应用产品性能方面提供相应的薄膜工艺技术,正在进行多种同生产设备研发课题,努力研发新型薄膜技术。