AT（株）技术研究所建立于2007年，是一所致力于研发R2R真空镀膜设备及其他真空镀膜设备、等离子源表面处理和镀膜领域差别化设备制造技术及真空镀膜工艺技术，努力给顾客提供最优质设备技术的部门。
技术研究所一直致力于研发包括PVD（物理气相沉积）及PECVD（等离子体增强化学气相沉积）真空R2R镀膜设备以及In-Line镀膜设备在内的适用于多种领域的工业用真空镀膜设备。为此，本部门积极对沉积源、R2R及In-Line设备的基板传输相关联的机械及PLC/HMI等控制技术在内的核心技术进行研发，以提供最优化的镀膜设备作为主要目标。同时，以丰富的设备制造技术和薄膜镀膜技术为基础，努力为顾客提供满足需求的新型产品以及符合新型产业创收的设备。