样品评估服务

利用多年间积累的设备制造及PVD工艺经验,可以为顾客提供新产品研发及产品改善相关联的事先研发测试服务。

本公司积极进行产品研发,以供应最优化的设备作为目标,通过提供符合产品研发需求的研究设备以及工艺技术,为顾客营造适应市场快速变化的研发环境。 此外,以本公司的PVD source制造技术为基础,可以提供适合溅射、热镀膜、化学气相镀膜等多种领域的产品研发环境。

  • 镀膜材料 | Coating Materials
AT(株)通过利用所拥有的研究设备,为顾客提供事先研发测试援助,努力向顾客提供包括溅射方式在内的多种镀膜测试项目。此外,以本公司的工艺技术为基础,可以提供如下材料的镀膜项目,同时也提供新型材料镀膜的沉积源研发及最优化测试项目。
应用基础 PET, PI, 吉他Flexible polymer膜,金属膜,玻璃基板,成形四大展区等。
沉积材料 金属材料 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, Ni, Ag 和其它金属材料
活性物质 TiO2, Nb2O5, SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 与其他氮化物/氧化物材料
Power supply DC, Pulse DC, MF, 其他沉积源电源
  • 应用产品 | Application Products

本公司的事先研发测试服务可以给多种应用产品所要进行的产品基础性能评价以及新产品研发提供测试环境。以本公司所拥有的产品生产设备技术为基础,能够提供事先评价所需要的环境以及解决方法。

应用
显示,电子零部件等新型可再生能源的开发,根据客户的需求
基于应用程序 玻璃和板型衬底,成形的四大展会,柔性聚合物薄膜
沉积 热沉积,溅射,化学气相沉积法
表面处理 等离子表面处理(DC, Pulse DC 等离子体,线性离子束)
  • Roll-to-Rol真空镀膜系统 | Vacuum Roll-to-Roll Sputter Coating System
由Roll-to-Roll sputter设备所构成的研究1号机可以对多种金属以及活性材料进行镀膜,也可以在产品研发初期对产品进行性能测试其主要。 由安装薄膜和预加热的Unwinder、等离子表面处理时的等离子预处理、溅射镀膜过程、薄膜脱附所需Rewinder的chamber构成。 为了满足顾客对产品研发的需求,溅射沉积源的电源装置由多种结构构成,可以适用于不同种类产品的研发及性能评价测试。
Chamber 表 Circular Multi chamber
基于应用程序 PET, PI, 吉他 Flexible polymer 电影,金属膜
Core 尺寸 3英寸, 6英寸
相机规格 宽度 长度 厚度 (Polymer) 厚度 (金属)
Max. 550㎜ Max.ø330㎜ Min. 50㎛ 100㎛ ~ 400㎛
行驶速度 Max. 3m/min
预处理方法 预加热 等离子表面处理
Max. 150℃ DC, Pulse DC 等离子表面处理, Linear Ion beam Source
Power supply DC, Pulse DC, MF
  • 真空镀膜系统 | Vacuum Coating System
镀膜测试1号机能够使用不同的沉积源可以对不同样品进行事先测试,同时可以实现基板旋转和线性移动等功能。此外,也可以使用柔性聚合物基板,能够对不同领域的产品进行测试。 另这台测试设备可以实现溅射、热镀膜、等离子表面处理并且适用于新型沉积源。AT产业的触控产品到汽车/家电产品的外部材料,多种领域的产品都可以运用这台设备进行测试