AT(株)可以单独提供设备中所使用的Plasma treatment source。以多年间的设备制造技术为基础,可以为多种roll-to-roll以及In-Line设备提供最优化的等离子源。 Plasma treatment source主要以DC bombardment以及Pulse DC bombardment的方式进行供应。适用于一般真空镀膜设备、In-line溅射设备、R2R溅射设备以及Cluster溅射设备等多种真空设备。

产品规格 | Product Specifications
DC 等离子体源 Pulse DC 等离子体源
电源 DC Pulse DC
Backing plate Direct cooling type Direct / Indirect cooling type
的最大长度 2,500mm
设备 In-line / R2R / Cluster / 一般工业沉积设备
应用产品 | Application Products

在AT Co,.Ltd.中 Plasma treatment source 可在各种工业应用的等离子体源。
和柔性聚合物膜可以从等离子体源至基板的各种不锈钢板施加,它可以被用作衬底的源等离子体表面处理。

应用 显示器,电子元件,可再生能源,汽车行业,钢铁行业,家电行业
基于应用程序 柔性聚合物膜,玻璃和板状衬底,形4展,不锈钢
使用方法 等离子表面处理