AT（株）可以提供不同类型的等离子表面处理、蚀刻以及辅助等离子源中使用的高功率线性离子束源(Linear Ion beam Source)。
线性离子束源适用于一般真空镀膜设备、In-line溅射设备、R2R溅射设备以及Cluster镀膜设备等真空设备之中，是一种能够运用于不同产业领域的等离子源。

	LIS-400	LIS-700	LIS-1000	LIS-1550
预付款 ¹	350mm	650mm	950mm	1,500mm
放电电压	Max. 3KV	Max. 4KV	Max. 4KV	Max. 5KV
放电电流	< 0.5A	< 1.0A	< 1.5A	< 2.0A
电源规格 ²	3KV / 1A	4KV / 1A	4KV / 2A	5KV / 2A
过程压力/strong>	0.5 mtorr ~ 3 mtorr
Gas flow	50sccm ~ 300sccm

⑴ 预付款：在基地 Linear Ion beam Source 可能的修改的预先在基部的宽度
⑵ 电源 : Linear Ion beam Source 大小，规格和变化是可能的，根据预期的用途

在AT Co,.Ltd.中 Linear Ion beam Source 可在各种工业应用的等离子体源。
由柔性聚合物膜的不锈钢板可以适用于各种基材的等离子体源，等离子体表面处理和刻蚀的基础上，可作为辅助等离子体源。

应用	显示器，电子元件，可再生能源，汽车行业，钢铁行业，家电行业
基于应用程序	柔性聚合物膜，玻璃和板状衬底，形4展，不锈钢
使用方法	施加等离子体表面处理方法，蚀刻，等离子辅助源

该AT Co,.Ltd.能够提供离子束源被用于研发和小型设备的通知类型。
该结构已被安装的研究，开发和设备，以促进小，它可以用来作为等离子体源关于各种开发目的。