AT(株)可以提供不同类型的等离子表面处理、蚀刻以及辅助等离子源中使用的高功率线性离子束源(Linear Ion beam Source)。 线性离子束源适用于一般真空镀膜设备、In-line溅射设备、R2R溅射设备以及Cluster镀膜设备等真空设备之中,是一种能够运用于不同产业领域的等离子源。

产品规格 | Product Specifications
LIS-400 LIS-700 LIS-1000 LIS-1550
预付款 ¹ 350mm 650mm 950mm 1,500mm
放电电压 Max. 3KV Max. 4KV Max. 4KV Max. 5KV
放电电流 < 0.5A < 1.0A < 1.5A < 2.0A
电源规格 ² 3KV / 1A 4KV / 1A 4KV / 2A 5KV / 2A
过程压力/strong> 0.5 mtorr ~ 3 mtorr
Gas flow 50sccm ~ 300sccm

⑴ 预付款:在基地 Linear Ion beam Source 可能的修改的预先在基部的宽度
⑵ 电源 : Linear Ion beam Source 大小,规格和变化是可能的,根据预期的用途

应用产品 | Application Products

在AT Co,.Ltd.中 Linear Ion beam Source 可在各种工业应用的等离子体源。
由柔性聚合物膜的不锈钢板可以适用于各种基材的等离子体源,等离子体表面处理和刻蚀的基础上,可作为辅助等离子体源。

应用 显示器,电子元件,可再生能源,汽车行业,钢铁行业,家电行业
基于应用程序 柔性聚合物膜,玻璃和板状衬底,形4展,不锈钢
使用方法 施加等离子体表面处理方法,蚀刻,等离子辅助源
应用领域 | Circular type Ion beam Source

该AT Co,.Ltd.能够提供离子束源被用于研发和小型设备的通知类型。
该结构已被安装的研究,开发和设备,以促进小,它可以用来作为等离子体源关于各种开发目的。

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