AT（株）的工业用真空镀膜设备主要采用电弧离子镀以及磁控溅射镀膜的方法，广泛运用于外部材料领域。同时能够对塑料成型表面以及多种金属基板的表面进行等离子表面处理，实现表面改性和PVD镀膜，使得本设备可以应用于高硬度镀膜和家电产品外部材料等装饰领域。

AT（株）的工业用真空镀膜设备以自身的等离子表面处理技术以及PVD镀膜技术为基础，可以运用于多种外部材料的生产过程中。工业用真空镀膜设备的应用领域主要有汽车内外部材料、家电产品外部材料等装饰产品、高硬度产品生产加工等。此外，将真空镀膜技术应用到AT（株）公司所生产的不锈钢板材上，可以有效扩大钢板应用领域的镀膜产品。

AT（株）的 工业用镀膜设备可以根据顾客所需求的规格进行制造，能够在最大程度上提升产品生产的效率。以下是设备制造以及供应时的基本规格。

Chamber 板	按照协商的规格选择
基于应用程序	形塑料基板和金属基材
等离子表面处理	DC, Pulse DC 等离子表面处理, Linear Ion beam Source
热处理	Max. 900℃
沉积源	Sputter source	Single planar cathode / Dual planar cathode Single rotary cathode / Dual rotary cathode
	Arc source	Circular type arc ion plating source
	辅助等离子体源	Plasma assist source
沉积材料	金属材料	Ti, Cr, Al, Cu, Moly, 其它 金属材料
	反应物质	TiN, CrTiN, CrTiAlN, SiO2, Si3N4, Al2O3, 其他材料
Power supply	DC, Pulse DC, MF
Pump	在选择合适的泵设备的要求