TITAN series由单一真空腔组成，可以实现单层薄膜和多层薄膜的连续镀膜以及金属和活性材料的连续镀膜。

AT（株）所生产的TITAN series设备能够实现金属物质或者活性材料的双重连续镀膜，可以运用到不同产品之中。

IT部门	IM-ITO触摸膜和金属网，金属丝显示能源领域
能源行业	薄膜太阳能电池，可充电电池的Li 2
其他行业	基于应用的多层薄膜沉积

AT（株）的R2R镀膜设备可以根据顾客所需求的规格进行制造，能够在最大程度上提升产品生产的效率。以下是设备制造以及供应时的基本规格。

Chamber 表	Rectangular type single chamber
基于应用程序	PET, PI, 吉他 Flexible polymer 胶卷
Core 尺寸	3英寸, 6英寸
衬底规格	幅	长短	厚薄 (Polymer)	厚薄 (金属)
	Max. 1,350㎜	Max. ø550㎜	Min. 23㎛	10㎛ ~ 400㎛
行驶速度	Max. 20m/min
预处理方法	预处理方法	Max. 200℃
	等离子表面处理	DC, Pulse DC 等离子表面处理, Linear ion beam source
沉积源	Sputter source	Single planar cathode Dual planar cathode Single rotary cathode Dual rotary cathode
	Thermal source	Crucible, E-beam
	辅助等离子体源	Plasma assist source
沉积材料	金属材料	Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, Ni, Ag 其它金属材料
	反应性材料	TiO2, Nb2O5, SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 其他氮化物/氧化物材料
Power supply	DC, Pulse DC, MF
Pump	设备要求适当 pump选择
测量	透射率，反射率，色差计，等离子体发射显示器, RGA
Web align	EPC module