MENTO-M series是一种拥有分离型真空腔的R2R镀膜设备,可以根据性能进行更换,能够有效提升多层连续镀膜以及产品生产工艺的效率。基本的真空腔主要由unwinder, process 和rewinder组成, 根据产品生产时对设备的要求可以通过multi process真空腔扩大process区间。

产品规格 | Application Products

AT(株)所生产的MENTO-M series设备能够实现金属物质或者活性材料的双重连续镀膜,可以运用到不同产品之中。

IT 部门 IM-ITO膜和金属网触摸显示金属布线和阻挡膜热块
能源 行业 窗膜,薄膜太阳能电池,可充电电池的Li 2电子领域效率FCCL,电磁波屏蔽膜
电子器件板块 高效率FCCL,电磁波屏蔽过滤器
其他行业 基于多层薄膜沉积室内覆盖的应用

设备规格 | System Specifications,

AT(株)的R2R镀膜设备可以根据顾客所需求的规格进行制造,能够在最大程度上提升产品生产的效率。以下是设备制造以及供应时的基本规格。

Chamber 表 unwinder Rectangular type
process Circular type
rewinder Rectangular type
基于应用程序 PET, PI, 吉他 Flexible polymer 膜和金属膜
Core 尺寸 3英寸, 6英寸
规格描述 长短 厚度 (polymer) 厚度 (金属)
Max. 1,350㎜ Max.ø550㎜ Min. 23㎛ 100㎛ ~ 400㎛
行驶速度 Max. 20m/min
预处理方法 预加热 Max. 200℃
等离子表面处理 DC, Pulse DC 等离子表面处理, Linear ion beam source
沉积源 Sputter source Single planar cathode / Dual planar cathode Single rotary cathode / Dual rotary cathode
Thermal source Crucible, E-beam
辅助等离子体源 Plasma assist source
沉积材料 金属材料 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, Ni, Ag 等金属材料
活性物质 TiO2, Nb2O5, SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 其他氮化物/氧化物材料
Power supply DC, Pulse DC, MF
Pump 在选择合适的泵设备的要求
测量仪器 表面电阻,光(传输,反射,色差计),等离子体发射显示器, RGA
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