MENTO-M series是一种拥有分离型真空腔的R2R镀膜设备，可以根据性能进行更换，能够有效提升多层连续镀膜以及产品生产工艺的效率。基本的真空腔主要由unwinder, process 和rewinder组成， 根据产品生产时对设备的要求可以通过multi process真空腔扩大process区间。

AT（株）所生产的MENTO-M series设备能够实现金属物质或者活性材料的双重连续镀膜，可以运用到不同产品之中。

IT 部门	IM-ITO膜和金属网触摸显示金属布线和阻挡膜热块
能源 行业	窗膜，薄膜太阳能电池，可充电电池的Li 2电子领域效率FCCL，电磁波屏蔽膜
电子器件板块	高效率FCCL，电磁波屏蔽过滤器
其他行业	基于多层薄膜沉积室内覆盖的应用

AT（株）的R2R镀膜设备可以根据顾客所需求的规格进行制造，能够在最大程度上提升产品生产的效率。以下是设备制造以及供应时的基本规格。

Chamber 表	unwinder	Rectangular type
	process	Circular type
	rewinder	Rectangular type
基于应用程序	PET, PI, 吉他 Flexible polymer 膜和金属膜
Core 尺寸	3英寸, 6英寸
规格描述	幅	长短	厚度 (polymer)	厚度 (金属)
	Max. 1,350㎜	Max.ø550㎜	Min. 23㎛	100㎛ ~ 400㎛
行驶速度	Max. 20m/min
预处理方法	预加热	Max. 200℃
	等离子表面处理	DC, Pulse DC 等离子表面处理, Linear ion beam source
沉积源	Sputter source	Single planar cathode / Dual planar cathode Single rotary cathode / Dual rotary cathode
	Thermal source	Crucible, E-beam
	辅助等离子体源	Plasma assist source
沉积材料	金属材料	Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, Ni, Ag 等金属材料
	活性物质	TiO2, Nb2O5, SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 其他氮化物/氧化物材料
Power supply	DC, Pulse DC, MF
Pump	在选择合适的泵设备的要求
测量仪器	表面电阻，光（传输，反射，色差计），等离子体发射显示器, RGA
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