에이티㈜는 다양한 플라즈마 표면처리, 에칭, 플라즈마 보조소스로 적용이 가능한 고출력 전원방식의 선형이온빔소스(Linear Ion beam Source)를 공급하고 있습니다.
Linear Ion beam Source는 일반 진공증착장비, In-line 스퍼터장비, R2R 스퍼터장비 및 Cluster 증착장비 등 진공장비에 적용할 수 있어 다양한 응용산업 분야에 적용이 가능한 플라즈마 소스입니다.

	LIS-400	LIS-700	LIS-1000	LIS-1550
유효폭 ¹	350mm	650mm	950mm	1,500mm
방전전압	Max. 3KV	Max. 4KV	Max. 4KV	Max. 5KV
방전전류	< 0.5A	< 1.0A	< 1.5A	< 2.0A
전원장치 ²	3KV / 1A	4KV / 1A	4KV / 2A	5KV / 2A
공정압력/strong>	0.5 mtorr ~ 3 mtorr
Gas flow	50sccm ~ 300sccm

 

⑴ 유효폭 : 기재에 대한 Linear Ion beam Source의 유효폭은 기재에 폭에 변경이 가능함
⑵ 전원장치 : Linear Ion beam Source 크기, 사양 및 사용 목적에 따라 변경이 가능함

에이티㈜의 Linear Ion beam Source는 다양한 산업분야에 적용이 가능한 플라즈마 소스입니다. 플렉시블 폴리머 필름부터 스테인리스 강판까지 다양한 기재에 플라즈마 소스를 적용할 수 있으며, 기재의 플라즈마 표면처리 및 에칭공정, 플라즈마 보조 소스로 활용이 가능합니다.

응용분야	디스플레이, 전자소자부품, 신재생에너지, 자동차산업, 철강산업, 생활가전 분야
적용기재	플렉시블 폴리머 필름, Glass 및 평판형 기재, 형상화된 사출품, 스테인리스 강판
적용방식	플라즈마 표면처리, 에칭공정, 플라즈마 보조 소스

에이티㈜는 연구개발 및 소형 장비에 적용이 가능한 Circular type의 Ion beam source를 공급하고 있습니다.
연구개발 및 소형 장비에 설치가 용이하도록 구성이 되어 있으며, 다양한 개발 목적의 플라즈마 소스로 활용이 가능합니다.