에이티㈜는 스퍼터 장비에 적용되는 planar magnetron sputter source를 장비와 별도의 제품으로 공급을 하고 있습니다. 다년간 장비 제조기술을 바탕으로 다양한 스퍼터 장비에 적용할 수 있는 최적화된 플라즈마 소스로 제공하고 있습니다.
Planar magnetron cathode는 Static/Moving magnetron의 형태로 제공하고 있으며, 일반 진공증착장비, In-line 스퍼터장비, R2R 스퍼터장비 및 Cluster 증착장비 등 다양한 진공장비에 적용할 수 있습니다.

구분	Single planar cathode	Dual planar cathode
전원장치	DC, Pulse DC, RF	DC, Pulse DC, Bipolar Pulse DC, AC
DDR(*)	≥ 150nmㆍm/min @Cu	≥ 300nmㆍm/min @Cu
	≥ 30nmㆍm/min @ITO	≥ 50nmㆍm/min @ITO
타켓소모	≥ 35%	≥ 35%
Backing plate	Direct / Indirect cooling type
Magnet 형태	Static / Moving magnet 방식
타겟 최대길이	2,500mm
적용장비	In-line / R2R / Cluster / 일반산업용 증착장비

(*) DDR(Dynamic Deposition Rate)