MENTO-M Seires는 다층박막의 연속증착 및 제품 생산 공정의 효율성을 증대시키기 위해 기능에 따라 분리된 진공챔버를 구성한 R2R 증착 장비입니다. 기본적인 진공챔버 구성은 Unwinder, Process 및 Rewinder로 구성이 되어 있으며, 제품 생산을 위한 장비 요구 사양에 따라 Process 구간은 Multi process 진공챔버로 확장이 가능합니다.

응용제품 분야 | Application Products

에이티㈜의 MENTO-M Series는 금속물질 혹은 반응성물질로 구분하여 이종물질을 연속으로 증착할 수 있어 다양한 산업분야의 응용제품에 적용할 수 있습니다.

IT 분야 IM-ITO 및 메탈메쉬 터치필름, 디스플레이 금속배선, 베리어필름
에너지분야 열차단 윈도우필름, 박막태양전지, Li 2차 전지
전자소자분야 고효율 FCCL, 전자파차폐 필름
기타 산업분야 다층박막 증착 기반의 인테리어 외장재 응용분야
장비 사양 | System Specifications

에이티㈜의 R2R 증착장비 제작 방식은 고객의 생산 제품을 최적의 효율로 생산할 수 있도록 주문자 요청 사양에 기반을 두고 있습니다. 이를 기반으로 아래의 공통 사양을 반영하여 장비 제작 및 공급을 하고 있습니다.

Chamber 형태 Unwinder Rectangular Type
Process Circular Type
Rewinder Rectangular Type
적용기재 PET, PI, 기타 Flexible Polymer 필름, 금속필름
Core 크기 3인치, 6인치
기재사양 길이 두께 (Polymer) 두께 (금속)
Max. 1,350㎜ Max.ø550㎜ Min. 23㎛ 100㎛ ~ 400㎛
주행속도 Max. 20m/min
전처리방식 전열처리 Max. 200℃
플라즈마 표면처리 DC, Pulse DC 플라즈마 표면처리, Linear Ion Beam Source
증착소스 Sputter Source Single Planar Cathode / Dual Planar Cathode Single Rotary Cathode / Dual Rotary Cathode
Thermal Source Crucible, E-Beam
플라즈마 보조소스 Plasma Assist Source
증착물질 금속물질 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, Ni, Ag 및 기타 금속물질
반응성물질 TiO2, Nb2O5, SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 및 기타 질화/산화물질
Power Supply DC, Pulse DC, MF
Pump 장비 요구사양에 적합한 Pump 선정
측정기 면저항, 광학(투과율, 반사율, 색차계), 플라즈마방출모니터, RGA
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